Captura de la presentación de la 'Ley de Escalado Tau' - HUAWEI
MADRID, 26 May. (Portaltic/EP) -
Huawei Technologies ha presentado una nueva ley de escalado para el desarrollo de semiconductores con la que igualará la creación de chips con el proceso de 1,4 nanómetros de sus competidores para 2031.
La firma china ha presentado 'Ley de Escalado Tau' este lunes, en el marco del principal foro global de circuitos y sistemas electrónicos 'IEEE International Symposium on Circuits and Systems (ISCAS)', con el que guiará el desarrollo de los semiconductores en adelante.
Esta ley pretende reemplazar la Ley de Moore, que durante más de cinco décadas ha permitido crear chips cada vez más pequeños y potentes al tiempo que se introducen en ellos un mayor número de transistores, si que suponga un coste destacado.
La Ley predijo que el número de transistores utilizados en un chip se duplicaría aproximadamente cada dos años; una escala geométrica que utilizan los principales fabricantes de la industria y que actualmente presenta limitaciones con la miniaturización de los transistores y la pérdida de rentabilidad económica.
Huawei pretende sustituirla por una scala temporal, en la que intervienen tecnologías como la arquitectura LogicFolding, que aumenta la densidad de transistores al reducir la carga resistiva y capacitiva de la propagación de la señal; y un mecanismo de cooptimización multinivel, que abarca dispositivos semiconductores, circuitos, chips y sistemas.
"Este mecanismo tiene como objetivo acortar sistemáticamente la constante de tiempo para aumentar el rendimiento, la eficiencia energética y la densidad de transistores", como explica en una nota de prensa.
Con la Ley de Escalado Tau, Huawei asegura que podrá fabricar chips para dispositivo de gama alta con una densidad de transistores equivalente a los procesos de 1,4 nm para 2031.